渦流法適用于測(cè)量大多數(shù)陽極氧化覆蓋層的厚度。利用高頻交變電流在線圈中產(chǎn)生的電磁場(chǎng)，當(dāng)測(cè)頭和覆蓋層接觸時(shí)，金屬的基體上會(huì)產(chǎn)生電渦流，并對(duì)測(cè)頭中的線圈產(chǎn)生反饋?zhàn)饔茫ㄟ^測(cè)量反饋?zhàn)饔玫拇笮【涂梢詫?dǎo)出覆蓋層的厚度;
磁性法適用于磁性金屬基體上的非磁性涂層的測(cè)量。當(dāng)測(cè)頭和覆蓋層接觸時(shí)，測(cè)頭和磁性金屬的基體構(gòu)成一閉合的磁路，由于非磁性覆蓋層的存在，會(huì)使磁路磁阻變化，通過測(cè)量其變化導(dǎo)出覆蓋層的厚度。
而膜厚計(jì)既有磁性測(cè)量原理，也有渦流測(cè)量原理。磁性測(cè)量用于檢測(cè)磁性金屬基材上的非磁性涂層厚度，渦流測(cè)量用于檢測(cè)非磁性基體上的非導(dǎo)電涂層厚度。
KETT膜厚計(jì)使用注意事項(xiàng)：
1、零點(diǎn)校準(zhǔn)：因?yàn)橹暗臏y(cè)量參數(shù)可能會(huì)對(duì)當(dāng)前測(cè)量造成一定的影響，所以在每次使用膜厚計(jì)之前需要進(jìn)行光學(xué)校準(zhǔn)。零點(diǎn)校準(zhǔn)可以消 除前次測(cè)量有參數(shù)的影響，能夠降低測(cè)量的結(jié)果的誤差，使測(cè)量結(jié)果更加精 確。
2、適宜的基體厚度：在使用膜厚計(jì)對(duì)物體進(jìn)行測(cè)量時(shí)應(yīng)選擇合適厚度的基體，否則會(huì)極大程度的影響儀器的測(cè)量精度，造成數(shù)據(jù)結(jié)果不準(zhǔn)確，影響測(cè)量過程的正常進(jìn)行。
3、物體表面粗糙程度：對(duì)于被測(cè)物體的表面不宜太過粗糙，因?yàn)榇植诘谋砻嫒菀滓鹛筋^每次測(cè)試點(diǎn)不一樣，導(dǎo)致測(cè)試數(shù)據(jù)不穩(wěn)定。所以被測(cè)物體的表面應(yīng)該盡量保持光滑，以保證測(cè)量結(jié)果的精 確性。
膜厚計(jì)使用范圍廣，測(cè)量迅速，因而被人們廣泛使用。相信通過以上介紹的膜厚計(jì)的使用方法以及在使用過程中的注意事項(xiàng)，一定能夠幫助我們更好的使用膜厚計(jì)，提高工作效率。
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